ChemiMaster 8310(CM8310)儀器基于動(dòng)態(tài)技術(shù)，可進(jìn)行TPD(程序升溫脫附)、TPR（程序升溫還原），TPO（程序升溫氧化）、脈沖化學(xué)吸附測金屬分散度、蒸汽吸附、BET單點(diǎn)比表面積的物理吸附分析、多組分競爭性吸附，用于測定催化劑材料的酸堿量、酸堿強度、貴金屬分散度、氧化還原性能、多組分競爭性吸附等重要指標。

全自動(dòng)化學(xué)吸附儀CM8310

                              

全自動(dòng)化學(xué)吸附儀CM8310配置
分析站數量：1個(gè)
TCD數量：   1個(gè)
質(zhì)量流量控制器數量：2個(gè)
尾部質(zhì)量流量計數量：1個(gè)
電動(dòng)六通閥數量：1個(gè)
電動(dòng)四通閥數量：2個(gè)
全自動(dòng)化學(xué)吸附儀CM8310特點(diǎn)
管路結構：并聯(lián)
保溫設計：      整體管路控溫保溫
防腐蝕功能：整體管路防腐蝕設計
風(fēng)冷系統：1個(gè)強制風(fēng)冷系統
冷阱數量：1個(gè)
進(jìn)氣端口：8路，儀器可自由切換
蒸汽發(fā)生器：連續和脈沖兩個(gè)模式
全自動(dòng)化學(xué)吸附儀CM8310技術(shù)參數
●加熱爐工作溫度最高1200℃可選低溫裝置
●加熱爐采用“床溫"和“爐溫"雙點(diǎn)測控
●樣品溫度通過(guò)獨立的溫度傳感測量與控制
●檢測器類(lèi)型為萊鎢合金熱導檢測器TCD 
●儀器內部整體保溫，最高可達300℃
● 氣體流速范圍 5～100 SCCM
● 軟件程序升溫實(shí)時(shí)顯示，閥門(mén)狀態(tài)顯示
●質(zhì)譜取氣端口在樣品管出氣口，避免氣流干擾
● 儀器具有系統危險狀態(tài)報警功能
● 可選配蒸汽發(fā)生器，整體管路保溫
● LOOP環(huán)可以定制選配3種體積以上
● 管路1/8 英寸SS 316不銹鋼管 
● 儀器內部管線(xiàn)和控制閥門(mén)均可保溫
全自動(dòng)化學(xué)吸附儀CM8310尺寸參數

儀器CM8300系列選型指南

化學(xué)吸附儀可升級競爭性吸附儀
 通過(guò)TPD或脈沖滴定等過(guò)程，可以測試樣品對于特定氣體吸附量。但在實(shí)際應用中，樣品所接觸到的氣氛通常更為復雜，不同氣體同時(shí)與樣品接觸時(shí)，吸附能力并非簡(jiǎn)單的加和關(guān)系，而有可能表現出不同組分的競爭關(guān)系（X組分的存在有可能抑制樣品對于Y組分的吸附）或協(xié)調關(guān)系（X組分的存在有可能促進(jìn)樣品對于Y組分的吸附）。因此對于實(shí)際應用場(chǎng)景，有必要針對更為復雜的氣體配比條件，測試樣品對于多組分氣體的實(shí)際吸附能力。
 TPD程序升溫脫附
樣品的表面活性位（例如酸中心）吸附探針?lè )肿樱ɡ鏝H3）后，在載氣吹掃下進(jìn)行程序升溫，記錄樣品溫度與載氣濃度的變化，即為T(mén)PD測試譜圖。譜圖中探針?lè )肿拥拿摳椒宓臏囟葘钚灾行牡膹姸?，譜圖中探針?lè )肿拥拿摳椒宓拿娣e對應活性中心的數量。
TPR/TPO程序升溫還原/程序升溫氧化
TPR用于表征金屬催化劑的還原性。用一定比例的H2/Ar混合氣體作為載氣流過(guò)樣品床層并按照一定速率程序升溫。記錄樣品溫度與載氣濃度的變化，即為T(mén)PR測試譜圖。譜圖中還原峰的溫度對應金屬中心的還原性能，譜圖中還原峰的面積對應金屬中心還原過(guò)程的耗氫量。TPO與TPR類(lèi)似，用氧化性氣體代替還原性氣體，用于測試金屬中心的氧化性能。
脈沖滴定
以脈沖方式向樣品表面定量注入特定的氣體，記錄載氣濃度的變化，未被吸附的氣體將流過(guò)樣品床層并被檢測器記錄。記錄載氣濃度的變化得到脈沖滴定譜圖，其中記錄到的峰對應于未被吸附的氣體的量，脈沖的次數對應于總脈沖量，兩者差減就是樣品的吸附量。脈沖滴定用于表征活性金屬面積，分散度，平均晶粒尺寸等參數。